【京都玉崎】【日本大亚真空Diavac】SR-350DS-31-N溅射设备
产品信息 [成膜设备/其他 | 溅射设备]特点/应用/目的特征■紧凑、经济,适用于研发。■通过安装传送室和L/UL室(可选),可实现全自动溅射。目的电池材料、微型机械、防反射膜、阻隔膜、透明导电膜、记录介质目的该设备设计用于溅射各种材料。[可定制产品:我们提供各种形状以满足您的需求。]目录(PDF)标准规格真空室(溅射室)圆筒形、SUS304、内尺寸φ350×H270、盖板升降旋转式(气液驱动)、
- 型号:
产品信息 [成膜设备/其他 | 溅射设备]特点/应用/目的特征■紧凑、经济,适用于研发。■通过安装传送室和L/UL室(可选),可实现全自动溅射。目的电池材料、微型机械、防反射膜、阻隔膜、透明导电膜、记录介质目的该设备设计用于溅射各种材料。[可定制产品:我们提供各种形状以满足您的需求。]目录(PDF)标准规格真空室(溅射室)圆筒形、SUS304、内尺寸φ350×H270、盖板升降旋转式(气液驱动)、
特征 | ■紧凑、经济,适用于研发。 ■通过安装传送室和L/UL室(可选),可实现全自动溅射。 |
---|---|
目的 | 电池材料、微型机械、防反射膜、阻隔膜、透明导电膜、记录介质 |
目的 | 该设备设计用于溅射各种材料。 |
[可定制产品:我们提供各种形状以满足您的需求。]
真空室 (溅射室) | 圆筒形、SUS304、内尺寸φ350×H270、 盖板升降旋转式(气液驱动)、 极限压力:1×10-4Pa以下、 带百叶窗的观察窗、 烘烤加热器(选配)、 溅射向下式(可改为溅射向上式) | |
---|---|---|
阴极 | 2 英寸磁控管阴极、4 个 磁靶阴极(可选)、 单独快门的远程驱动(可选:可定时器驱动)、 RFxRF 或 RFxDC(可选)可同时放电 | |
PCB支架 | ф280旋转基板支架 3-30 rpm连续旋转或90º步进进给 水冷(选项:300ºC加热) 可进行逆溅射(RF300W)(选项) | |
排气系统 | 300 L/sec TMP+RP(选项:可改为干泵) 通过蝶阀调节电导(手动) 排气操作和干气泄漏自动操作 | |
燃气系统 | 质量流量控制器2系列(可选:可添加气体系列) | |
真空计 | 宽带电离真空计+皮拉尼真空计 | |
溅射电源 | RF300W x 2 个单元(可选:可添加直流电源) 两个单元自动匹配 | |
公用事业 | 安装空间:约W2000 x D1000 x H1500 冷却水:3L/min、0.1~0.15MPa 电源容量:3ф200V 5kVA 溅射 气体、干燥气体(检漏用) | |
选项 | 中转室 装卸室 其他 请参考以上项目。 |