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【京都玉崎】【日本NSC科学】 激光IC开启装置 PL201D

开启装置打开药PS105激光开封PL201DPL201-20/PL221Plasma 开箱MP101切割、研磨、抛光、拆包BA102干蚀刻设备ES373ES403测试设备FB102-0FB200产品列表激光IC开启装置在对集成电路进行脱封时,需要用激光还原树脂,然后用酸或等离子体暴露芯片。如果使用传统的激光脱封设备直接暴露芯片,芯片会被激光损坏。我们现在已经开发出 PL201D,这是一种使用激光曝

  • 型号: PL201D
    激光IC开启装置
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    在对集成电路进行脱封时,需要用激光还原树脂,然后用酸或等离子体暴露芯片。如果使用传统的激光脱封设备直接暴露芯片,芯片会被激光损坏。
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    我们现在已经开发出 PL201D,这是一种使用激光曝光芯片而不会造成损坏的设备。
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    概述
    这是世界上第一台新型激光脱模设备,无需使用酸或等离子即可暴露模具,且不会造成任何损坏。
    特征
    传统的预处理激光脱封设备将芯片上的树脂处理至200μm以下,然后PL201D露出芯片。
    与常压等离子开启装置相比,开启时间可显著缩短。
    唯一需要的设备是排气口和空气。
    该工艺涉及通过激光照射和水洗(正在申请专利)全自动去除填料。
    损害响应
    它采用独特的机制来最大限度地减少激光对样品造成的损害。
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    手术
    只需选择简化的激光条件,并输入各工序的加工条件即可。
    加工区域可以通过输入数值并用鼠标在屏幕上拖动加工框来指定。
    此外,还可以通过叠加X射线图像等方式指定加工区域。
    安全设计
    PL201D为1级产品。其他功能包括用于操作管理的钥匙开关、联锁装置、操作门打开时禁止激光振荡的功能、激光振荡时自动门锁以及信号塔。
    拆箱示例
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