【京都玉崎】【日本CANON ANELVA】磁头溅射设备HC7100
HC7100 是利用隧道效应的 GMR 磁头和 TMR 磁头的溅射系统。产品信息目的特征规格引入新溅射技术LRP（低压远程等离子溅射），实现了±1％以下的优异膜厚均匀性。0.02 Pa 的低压放电（比正常溅射压力低一个数量级）可获得极其平坦且低电阻的薄膜。通过超高真空实现高MR比丰富的沉积模块阵容（多阴极规格）
- 型号： 磁头溅射设备HC7100
HC7100 是利用隧道效应的 GMR 磁头和 TMR 磁头的溅射系统。
HC7100 是利用隧道效应的 GMR 磁头和 TMR 磁头的溅射系统。产品信息目的特征规格引入新溅射技术LRP（低压远程等离子溅射），实现了±1％以下的优异膜厚均匀性。0.02 Pa 的低压放电（比正常溅射压力低一个数量级）可获得极其平坦且低电阻的薄膜。通过超高真空实现高MR比丰富的沉积模块阵容（多阴极规格）