【京都玉崎】【日本CANON ANELVA】MRAM溅射设备NC7900

这是一套用于量产的溅射系统，用于沉积MRAM（一种备受关注的非易失性存储器，NVM）的多层膜。该系统能够沉积STT-MRAM中使用的平面磁化MTJ和垂直磁化MTJ。之前用于研发的EC7800溅射系统已实现高通量和低颗粒化，可用于MRAM的量产。产品信息目的特征规格超高真空下斜入射旋转沉积多层薄膜形成技术，高品质界面控制兼容平面磁化MTJ和垂直磁化MTJ垂直磁化MTJ的产量达到20片/小时

• 型号： MRAM溅射设备NC7900