【京都玉崎】【日本CANON ANELVA】内存布线溅射设备IC7200
束型溅射设备，主要适用于半导体存储器中使用的金属布线材料的薄膜形成。我们独有的Kaela阴极技术，即使在反应溅射和高应力材料的情况下，也能实现良好的均匀性和低颗粒数。这是一款φ200mm专用设备，拥有丰富的工艺数据和高可靠性。产品信息目的特征规格阴极磁铁位置（3 轴）可根据每个配方现场改变（简化均匀性和清洁性的优化）PCM阴极可实现高覆盖率的无损伤沉积。
- 型号： 内存布线溅射设备IC7200
束型溅射设备，主要适用于半导体存储器中使用的金属布线材料的薄膜形成。
我们独有的Kaela阴极技术，即使在反应溅射和高应力材料的情况下，也能实现良好的均匀性和低颗粒数。
这是一款φ200mm专用设备，拥有丰富的工艺数据和高可靠性。