CANON ANELVA佳能真空

【京都玉崎】【日本CANON ANELVA】MRAM溅射设备EC7800

该溅射设备是集成了HC7100系列磁性薄膜技术架构而开发的,HC7100系列已作为硬盘磁头的GMR和TMR磁头的磁性薄膜溅射设备交付给众多客户,而IC7000系列(以前的I-1000系列)已作为半导体存储器的溅射设备交付给众多客户。该设备沉积多层膜以形成用于MRAM的MTJ元件,MRAM作为非易失性存储器(NVM)而备受关注,适用于从研发到小规模生产的所有领域。产品信息目的特征规格引入新溅射技术L

  • 型号: MRAM溅射设备EC7800

该溅射设备是集成了HC7100系列磁性薄膜技术架构而开发的,HC7100系列已作为硬盘磁头的GMR和TMR磁头的磁性薄膜溅射设备交付给众多客户,而IC7000系列(以前的I-1000系列)已作为半导体存储器的溅射设备交付给众多客户。该
设备沉积多层膜以形成用于MRAM的MTJ元件,MRAM作为非易失性存储器(NVM)而备受关注,适用于从研发到小规模生产的所有领域。

产品信息

  • 引入新溅射技术LRP(低压远程等离子溅射),实现了±1%以下的优异膜厚均匀性。

  • 0.02 Pa 的低压放电(比正常溅射压力低一个数量级)可获得极其平坦且低电阻的薄膜。

  • 通过超高真空实现高MR比

  • 种类丰富的蒸镀模块(多阴极规格)


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