【京都玉崎】【日本CANON ANELVA】内存布线溅射设备IC7500

这是一种集群溅射系统，主要适用于半导体存储器中使用的金属布线材料的薄膜沉积。我们独有的Kaela阴极技术，即使在反应溅射和高应力材料的情况下，也能实现良好的均匀性和低颗粒数量。该系统实现了高产量和高生产率，从而显著降低了制造成本。产品信息目的特征规格阴极磁铁位置（3 轴）可根据每个配方现场改变（简化均匀性和清洁性的优化）实现世界最高产量（80片晶圆/小时）半导体存储器量产基地开工率达90%以上（故

• 型号： 内存布线溅射设备IC7500