【京都玉崎】【日本CANON ANELVA】FC7100金属栅极形成溅射设备
这是适用于φ300mm的集群型溅射系统，采用本公司独有的溅射技术，可实现无损伤金属栅极的量产。产品信息目的特征规格超高真空共溅射薄膜成分控制超薄膜厚度高精度控制（0.1nm单位），膜厚均匀性优异（1σ<1%）兼容32nm以下镶嵌栅极形成工艺（PCM-PVD高覆盖膜形成）由于使用小型阴极（易于更换材料），材料成本较低
- 型号： FC7100金属栅极形成溅射设备
这是适用于φ300mm的集群型溅射系统，采用本公司独有的溅射技术，可实现无损伤金属栅极的量产。