【京都玉崎】【日本CANON ANELVA】EB1100溅射系统用于研发和小规模生产

该高性能溅射系统结合了我们通过丰富的经验积累的真空和溅射技术，适用于从研发到小规模生产的所有领域。凭借丰富的可选功能，可以根据您的需求定制系统。产品信息目的特征规格负载锁室是标准设备全自动运行（真空操作、基板输送、成膜工序可实现全自动）最多可安装四个φ4英寸阴极（标准规格：三个）可同时进行溅射（可选）可进行高温基材加热（最高可达 800°C）（可选）托盘运输可兼容各种基板尺寸（φ220mm区域内）