【京都玉崎】【日本CANON ANELVA】EB1000 研发溅射系统
研发领域的溅射设备根据用途，尤其是材料开发，需要具备多种功能。本设备是一款低成本、紧凑型研发溅射设备，基于佳能安耐华丰富的溅射技术和经验，旨在满足各种需求。产品信息目的特征规格配备三个φ2英寸小阴极适用于高价值材料和烧结材料可同时沉积三组分（可选）可用于偏移旋转沉积和固定面对沉积托盘运输可处理多种基材全自动排气操作（触摸屏操作）开放式框架，易于操作
- 型号： EB1000 研发溅射系统
研发领域的溅射设备根据用途，尤其是材料开发，需要具备多种功能。本设备是一款低成本、紧凑型研发溅射设备，基于佳能安耐华丰富的溅射技术和经验，旨在满足各种需求。