GP200 系列是首款专为半导体制造中的先进刻蚀和沉积工艺设计的、完全不依赖压力的压力式质量流量控制器（P-MFC）。GP200 系列 P-MFC 采用专利架构，突破了传统 P-MFC 的局限，即使在输送低蒸气压工艺气体时，也能提供最精确的工艺气体输送。该产品具备多项独特设计，包括集成式压差传感器与下游阀门架构的结合，可在业内最广泛的工作条件下实现最精确的工艺气体输送。由于 GP200 系列支持如
GP200 系列是首款专为半导体制造中的先进刻蚀和沉积工艺设计的、完全不依赖压力的压力式质量流量控制器（P-MFC）。
GP200 系列 P-MFC 采用专利架构，突破了传统 P-MFC 的局限，即使在输送低蒸气压工艺气体时，也能提供最精确的工艺气体输送。该产品具备多项独特设计，包括集成式压差传感器与下游阀门架构的结合，可在业内最广泛的工作条件下实现最精确的工艺气体输送。
由于 GP200 系列支持如此广泛的工艺条件，因此可作为许多传统压力式微量气流控制器（P-MFC）和热式微量气流控制器（thermal MFC）的直接替代品和升级方案。它消除了对压力调节器和传感器等组件的需求，从而降低了供气系统的复杂性和拥有成本。
| 介质类型 | Gas |
|---|---|
| 流量测量原理 | Pressured-based (P-MFC) |
| 流量范围 | 3 sccm - 50,000 sccm |
| 精度范围 | Zero Leak Valve: <±1% S.P. (5-100% F.S.), <±0.05% F. S. (0.5-5% F.S.), Metal Seal Valve: <±1% S.P. (5-100% F.S.), <±0.05% F. S. (2-5% F.S.) |
| 调节比 | Zero Leak Valve: 0.5 - 100% F.S., Metal Seal Valve: 2 - 100% F.S. |
| 重复性 | < ±0.15% S.P. |
| 最大压力 | 150 psi |
| 工作温度 | 10°C - 60°C |
| 测量/控制 | Measure & Control (Controller) |
| 最大流量 | 50 slpm |
| 最大流量 | 50000 sccm |
| 最大工作压力 | 10 bar |
| 最高温度 | 60 celsius |
| 密封选项 | Metal |
| 精度（占流量百分比） | ±1.0% |
| 连接方式 | Analog (0–5 V), DeviceNet, EtherCAT, RS485 |
